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声子和库仑杂质对二维材料中朗道能级的调控

声子和库仑杂质对二维材料中朗道能级的调控

定  价:71 元

        

  • 作者:冀文慧,董永胜,杨洪涛著
  • 出版时间:2025/9/1
  • ISBN:9787562976523
  • 出 版 社:武汉理工大学出版社
  • 中图法分类:TB383 
  • 页码:188页
  • 纸张:
  • 版次:1
  • 开本:24cm
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本书通过建立微观理论框架,采用线性组合算符和LLP变分法,讨论声子和库仑杂质对朗道能级带隙调控的影响,系统研究声子与库仑杂质对二维材料朗道能级的调控机制。针对垂直静磁场作用下的极性衬底上二维单层石墨烯和单层TMD结构,讨论载流子-声子Frhlich相互作用和带电杂质库仑屏蔽作用对石墨烯零朗道能级分裂和TMD带隙调控的影响,从而改进常量介电函数的近似情况。
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