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基于Aspen Plus 和 Aspen HYSYS的化工流程设计与模拟

基于Aspen Plus 和 Aspen HYSYS的化工流程设计与模拟

定  价:198 元

        

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  • 作者:[斯洛伐克]竺马.海德瑞(Juma Haydary)
  • 出版时间:2025/1/2
  • ISBN:9787118131970
  • 出 版 社:国防工业出版社
  • 中图法分类:TH 
  • 页码:
  • 纸张:
  • 版次:1
  • 开本:16开
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本书利用Aspen Plus和Aspen HYSYS模拟软件进行化工工艺设计和模拟的方法,介绍了化学工程设计的原理,并阐述了其在最常用的模拟软件中的应用实例。本书共分四篇:设计与模拟的简介、单元操作设计与模拟、工厂设计与模拟的常规组分与非常规组分。通过复杂的材料、聚合物和电解质的工艺过程模拟实例为复杂组分的模拟提供了实际应用的解决方案;通过同时演示Aspen Plus和Aspen HYSYS两种软件的模拟过程和模拟结果,对软件的模拟精度进行了比较。
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